JCV120V-1000WB

一、介绍

在集成电路芯片的制程中, CVD制程就是在晶圆基底长出有秩序的磊晶层, 好的磊晶层条件, 可以制作更省电的集成电路产品, 此磊晶层成长的温度比硅 的熔点为低, CVD制作过程时间长、温度高是晶圆制造过程最昂贵的步骤; cvd 的特殊光源, 必须达成光形一致性、升降温快速且温控稳定, 因为制程时间非 常戎长, 所以光源的稳定及寿命至为重要。

二、应用

1. 集成电路半导体制程所需要的特殊光源.

2. 光伏产品生产制程所需要的特殊光源.

3. 飞机机翼用特殊光源.

4. 连锁超商加热及预热用光源