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在集成电路芯片的制程中, EPI制程就是在晶圆基底长出有秩序的磊晶层, 好的磊晶层条件, 可以制作更省电的集成电路产品, 此磊晶层成长的温度比硅 的熔点为低, EPI制作过程时间长、温度高是晶圆制造过程最昂贵的步骤; EPI 的特殊光源, 必须达成光形一致性、升降温快速且温控稳定, 因为制程时间非 常戎长, 所以光源的稳定及寿命至为重要。
